Basit öğe kaydını göster

dc.contributor.advisorKavaklı, Cengiztr_TR
dc.contributor.authorMullaoğlu, Kemaltr_TR
dc.date.accessioned2015-10-15T06:53:47Z
dc.date.available2015-10-15T06:53:47Z
dc.date.issued2015tr_TR
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11655/2166
dc.description.abstractIn this study, 4-AMP-PS adsorbent particles were prepared by modifying chloromethyl polystyrene particles (CM-PS) with 4-aminomethyl pyridine (4-AMP) to remove As(V) ions from aqueous solutions. To obtain optimum modification conditions, effect of reaction temperature and the molar ratio between 4-aminomethyl pyridine functional groups and chlorine atoms on the surface of polystyrene (4-AMP/Cl) on the modification reaction efficiency was examined. Novel 4-AMP-PS particles were characterized by elemental analysis, FTIR, TGA, and XPS. Effect of solution pH, contact time, initial concentration, interfering anions and ionic strength on As (V) ions adsorption capacity by 4-AMP-PS particles were studied in batch system. It is observed that As(V) adsorption capacities by 4-AMP-PS particles in the range of pH 4-7 was constant. Kinetic studies showed that the As(V) ions adsorbtion onto the 4-AMP-PS particles surface follows a the pseudo-second-order kinetic model.tr_TR
dc.language.isoturtr_TR
dc.publisherFen Bilimleri Enstitüsütr_TR
dc.subjectArsenic(v)tr_TR
dc.titleAminometil Piridin Fonksiyonel Gruplarını İçeren Polimerik Partiküllerin Hazırlanması ve Arsenik(V) İyonlarının Adsorpsiyon Özelliklerinin İncelenmesitr_TR
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/masterThesistr_TR
dc.callno2015/2222tr_TR
dc.contributor.departmentoldKimyatr_TR
dc.description.ozetBu çalışmada, sulu çözeltilerden As(V) iyonlarını uzaklaştırmak için klorometil polistiren partikülleri (CM-PS) 4-aminometil piridin (4-AMP) ile modifiye edilerek 4-AMP-PS adsorbent partikülleri hazırlanmıştır. En uygun modifikasyon koşullarını belirlemek için reaksiyon sıcaklığı ve 4-aminometil piridin fonksiyonel grubun polistiren yüzeyindeki klor atomlarına mol oranın (4-AMP/Cl) modifikasyon verimine etkisi incelenmiştir. Geliştirilen 4-AMP-PS partiküllerinin kimyasal yapısı element analizi, FTIR, TGA, SEM ve XPS ile karakterize edilmiştir. 4-AMP-PS partiküllerinin As(V) iyonlarını adsorplama kapasitesine pH etkisi, temas süresi, başlangıç derişiminin etkisi, girişim yapan anyonların etkisi ve iyonik şiddetin etkisi kesikli sistemde incelenmiştir. pH 4-7 arasında 4-AMP-PS partiküllerinin As(V) adsorpsiyonun sabit kaldığı gözlenmiştir. Kinetik çalışmalar As(V) iyonlarının 4-AMP-PS partiküllerinin yüzeyine yalancı ikinci derece kinetik model üzerinden adsorpladığını göstermiştir.tr_TR


Bu öğenin dosyaları:

Bu öğe aşağıdaki koleksiyon(lar)da görünmektedir.

Basit öğe kaydını göster